EVG在Semicon Taiwan介绍NIL用于光子集成电路制造

2026年9月30日，据SemiAnalysis在X上的报道，EVG在Semicon Taiwan上介绍了纳米压印光刻（NIL）在光子集成电路大规模制造以及激光器制造中的应用。EVG指出，NIL特别适合在光子芯片内定义周期性结构，例如光栅耦合器，或用于微发射器阵列的微透镜阵列，并有可能用于DFB激光器光栅。该报道为系列内容的第一条，未提供更多细节。目前事件进展为EVG在Semicon Taiwan上公开介绍NIL在光子芯片量产及激光器制造中的适用场景。

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