余承东：国内正研发EUV设备，现阶段仍靠DUV

华为余承东在9月29日国际媒体圆桌会议上表示，极紫外光刻（EUV）设备是制造先进芯片的关键，中国目前正在研发这些设备，但现阶段国内仍依靠深紫外光刻（DUV）。 他是在被问及AI、硬件与EUV相关问题时作出上述表述的，并提到逻辑折叠技术作为受限条件下的提升方法。

AI 根据报道生成 · 2 小时前更新

还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。