IT之家 9 月 23 日消息，韩媒 ZDNET Korea 当地时间今日报道称，三星电子存储器业务近期调整了其先进内存技术的路线图，首代亚 10nm 级 DRAM 将采用混合键合结构。

三星电子正平行开发两种首代亚 10nm 级 DRAM 节点，计划在第 7 代 10nm 级的 1d nm 后导入。原本计划正式用于 "D0a" 工艺的是 4F² VCT 垂直通道晶体管方案，随着混合键合的 "B1b" 节点被扶正为新的 "D0a"，4F² VCT 方案的代号也随之调整为 "D0a-V"。

新版 "D0a" 节点将在不同的晶圆上制造存储阵列和外围电路，此后以 W2W（晶圆对晶圆）混合键合结合两部分。此类工艺允许针对性地优化阵列和外围器件表现，目前已在 3D NAND 上得到广泛应用。

▲ 基于 1c nm DRAM 的 HBM4E

相较需要高深宽比蚀刻形成垂直通道的 4F² VCT，混合键合工艺已在量产级别得到验证，基于该技术的 DRAM 商业化门槛也相对更低。